傳統(tǒng)作法是在鍍液中各種雜質(zhì)積累到一定程度，無法獲得滿意鍍層時，就要對鍍液進行大處理了。這里所說的雜質(zhì)主要是無機雜質(zhì)(如：鐵、銅、鉛、鋅、鉻等)和有機雜質(zhì)。
    對于常見的無機雜質(zhì)目前廣泛使用的是第二代除雜劑。它是一種鰲合劑，能和銅、鐵等金屬形成配位體，使其沉積電位與鎳的沉積電位接近。與鎳共沉積，均勻地分散在鍍層中。

    而有機雜質(zhì)主要是光亮劑的分解產(chǎn)物。當有機雜質(zhì)積累到一定含量后，會出現(xiàn)兩種癥狀：一是低電流區(qū)鍍層不光亮，即使加人走位劑作用也不明顯。二是高電流區(qū)鍍層脆性明顯加大(鍍液中鐵雜質(zhì)多時也有這種現(xiàn)象)。當出現(xiàn)這兩種現(xiàn)象時，就應該大處理鍍液。

    此外，當鍍液中意外進入了鉻酸，硝酸等雜質(zhì)時，也要進行大處理。

    處理鍍鎳溶液的傳統(tǒng)方法是先調(diào)低鍍液pH值，然后加入雙氧水并升高鍍液溫度，加入活性炭攪拌鍍液，調(diào)pH值靜置過夜。過濾，調(diào)pH，電解試鍍。

    若不加雙氧水處理鐵鋅等雜質(zhì)，而是選用金屬除雜劑來掩蔽這些金屬離子使之與鎳共沉積，就不需要升高鍍液溫度。加入粉末活性炭0．2～0．5g／L來吸附有機雜質(zhì)。這也是現(xiàn)在采用的一種處理方法。

    如果要將光亮劑盡可能的吸附干凈，則應該加入雙氧水以破壞光亮劑中的雙鍵或叁健，以利于活性炭吸附。活性炭要按每升鍍液l0g的量加入，在常溫下吸附攪拌l～2h后靜止過夜。過濾后調(diào)pH值，升溫后，余量雙氧水會自然分解。也可用少量高錳酸鉀將雙氧水破壞，但要在過濾前進行。

    凈化結(jié)果采用霍爾槽方法檢驗。打試片結(jié)果應該是基本均勻的淺灰色鎳層，如果有針孔，則說明有雙氧水未除凈。如果鍍層低區(qū)光亮，則說明活性炭已失效。應重新處理鍍液。